Sub-10 nm Linewidth and Overlay Performance Achieved with a Fine-Tuned EBPG-5000 TFE Electron Beam Lithography System

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 2000-12-30

著者

• Kurz H

  Amo Gmbh Aachen Deu

• Kurz Heinrich

  Amo Gmbh

• MAILE Bernd

  Xlith GmbH

• HENSCHEL Wolfgang

  AMO GmbH

• RIENKS Bert

  Leica Microsystems Lithography

• POLMAN Roelof

  Leica Microsystems Lithography

• KAARS Piet

  Leica Microsystems Lithography

• Kurz Heiorich

  AMO GmbH

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