Controlled Oxygen Doping in Silicon : A-6: SILICON CRYSTALS

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1983-02-28

著者

• Watanabe M.

  Toshiba LCD R&D Center

• Toji E.

  Toshiba Ceramics Research And Development Center

• USAMI T.

  Toshiba Research and Development Center

• TAKASU S.

  Toshiba Research and Development Center

• MATSUO S.

  Toshiba Ceramics Research and Development Center

関連論文

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