New Taper-Etching Technology Using Oxygen Ion Plasma : Etching and Deposition Technology

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1989-12-30

著者

• HASHIMOTO Chisato

  NTT LSI Laboratories

• Hashimoto Chisato

  Ntt Lsi Laboratories 3-1

• Oikawa Hideo

  Ntt Lsi Laboratories 3-1

• MSCHIDA Katsuyuki

  NTT LSI Laboratories 3-1

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