High Flux Low Energy Reactive Ion Etching in a Magnetic Multipole Reactor : Etching and Deposition Technology

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1989-12-30

著者

• Granneman E.h.a

  Asm Eutope Rembrandtlaan

• KUYPERS A.D.

  FOM Institute for Atomic and Molecular Physics

• HOPMAN H.J

  FOM Institute for Atomic and Molecular Physics

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