One-Layer Technique for Absorber Structuring of E-Beam Written Mastermasks for X-Ray Lithography : Lithography Technology
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1989-12-30
著者
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Dammel R.
Fraunhofer-institut Fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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EHRLICH Ch.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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DEMMELER R.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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GOEPEL U.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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PONGRATZ S.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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REIMER K.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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LINGNAU J.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str
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THEIS J.
Fraunhofer-Institut fur Mikrostrukturtechnik Dillenburger Str