Multilayer Resist Profile Control in Oxygen Reactive Ion Etching Using Ethanol Gas Mixture (<Special Issue> Plasma Processing)

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1994-07-30

著者

• Kimura Yasuki

  Vlsi R&d Center Oki Electric Industry Co. Ltd.

• AOYAMA Ryouichi

  VLSI R&D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.

• SUZUKI Seki

  VLSI R&D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.

• Suzuki Seki

  Vlsi R&d Center Oki Electric Industry Co. Ltd.

• Aoyama Ryouichi

  Vlsi R&d Center Oki Electric Industry Co. Ltd.

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