A Thermodynamical Study of the Growth Rate of Epitaxial Silicon from SiI_4
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1965-09-15
著者
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Araki Hidemaro
Electrical Communication Laboratory:(present Address) Ibaraki Annex Of The Electrical Communication
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Seki Hisashi
Electrical Communication Laboratory:(present Address) Faculty Of Engineering Tokyo University Of Agr