Substrate Bias Characteristics of ^<31>P^+ Implanted N-Channel MOS FET

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1974-10-05

著者

• Nakano Motoo

  Semiconductor Division Fujitsu Limited

• WADA Kunihiko

  Semiconductor Division, Fujitsu Limited

• Wada Kunihiko

  Semiconductor Division Fujitsu Limited

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