4.レーザー生成プラズマ光源 : 4.1レーザー生成プラズマ光源研究の現状(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)

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概要

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• The present status of the development of laser-produced plasma EUV sources throughout the world is summarized. The year 2002 will be remembered as a turning point when target material shifts from xenon to tin for high conversion efficiency. Research on the EUVL. Source takingplace at the AIST is also briefly described.

• 2003-03-25

著者

• 富江 敏尚

  産業技術総合研

• 富江 敏尚

  産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

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