フォトマスク検査方式の動向

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概要

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半導体製造に用いられるフォトマスクの検査方式について解説する.製造されたフォトマスクの検査は外観欠陥検査, 寸法測定, 比較測定について行われるので, それぞれについて, 方式, 装置, 問題点をまとめてみた.特に近年, 装置化, 自動化が活発となっている外観欠陥検査については, 各社の研究, 開発の具体例を含め問題点の説明を行う.
1978-06-01

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