金属マスク微動制御による有機ELデバイスの高精細パターニング

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概要

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低分子蒸着法による三色(RGB)独立発光方式の有機ELデバイスの高精細ピクセル形成を目的として、金属マスク微動制御機構を試作した。この機構は、板ばね構造を基本とした金属マスク移動用XYステージを備え、発光層薄膜のパターニング(RGB形成)は、金属マスク移動用XYステージをDCサーボモータで微動制御して行った。この機構を適用することによって33μm×90μmサイズの有機薄膜のパターニングを実現し、ピクセルピッチ100μm、開口率60%の発光素子(240×100ドット)を作製した。
社団法人映像情報メディア学会の論文
2000-03-03

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