ホログラフィック高分子分散液晶素子の高反射率化
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概要
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ホログラフィック高分子分散液晶(HPDLC)素子は偏向板、カラーフィルターを使用せず、光の回折現象だけを利用するため高い反射輝度が期待できる。HPDLC素子の反射特性の向上を目的として、HPDLC前駆体(液晶材料+光重合性材料)組成および光硬化条件が素子の反射特性に与える影響を調べた。その結果、反射向上には相分離の促進、早い硬化が有効であることが分かった。また、素子構造からのアプローチとして、フィルム基板を利用したHPDLC素子を作製し積層化への可能性を示した。さらに、四光束露光により、一画素中に2つの格子が作製できることを実証した。
- 1999-03-05
著者
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五藤 智久
NEC 機能デバイス・材料研究本部
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中田 大作
NEC 機能デバイス・材料研究本部
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三村 広二
NEC 機能デバイス・材料研究本部
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中田 大作
NEC機能デバイス・材料研究本部
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五藤 智久
日本電気(株) 機能材料研
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三村 広二
日本電気(株) 機能デバイス研
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