LB膜を用いたサブミクロン・リソグラフィー : エキシマレーザー、X線露光用レジストとしてのLB膜の評価
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概要
著者
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小川 一文
松下電器産業株式会社半導体研究センター半導体基礎研究所
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田村 秀治
松下電器産業株式会社半導体研究センター半導体基礎研究所
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小川 一文
松下電器産業
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上田 久美
松下電器
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上田 久美
松下電器産業(株), 半導体研究センター基礎研究所
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