[特別招待講演]電子線を用いた半導体微細寸法計測技術の進歩と将来展望

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概要

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• 1984年頃の1.3μm以上のデザインルールでは、光学顕微鏡がデバイス寸法評価の主体であったが、微細化によって限界となった。光にかわって走査形電子顕微鏡(以下、SEM)の技術をベースとして電子線測長装置(測長SEM)が開発された。プロセスの微細化が著しく進展し、現在では0.1μm以下となってきているが、こうした微細化に対応して開発されできた測長SEM技術の進歩をレビューするとともに、0.1μm以下の微細化に対応する将来技術の展望について述べる。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2003-01-23

著者

• 大高 正

  (株)日立ハイテクノロジーズ ナノテクノロジー製品事業本部研究開発本部

• 大高 正

  (株)日立ハイテクノロジーズ設計・製造統括本部那珂事業所

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