誘導結合プラズマソースのモニタリング技術
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概要
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半導体製造プロセスにおいて, 誘導結合プラズマは高密度プラズマソースとして, ドライエッチングやCVDの分野で盛んに実用化が進められている。現状ではプラズマソースとしてのデータは不充分であり, プラズマ特性の詳細研究が必要である。本研究では, プラズマプローブ・QMAS・発光分光等のモニタリング技術を使用し, 誘導結合プラズマソースの基本的性能を検討した。装置間機差・経時変動を計測する尺度としてプラズマモード変化特性を取り上げ, 誘導コイル抵抗値および高周波電源許容反射電力の重要性を明らかにした。また, パルス印加化により, 均一性の向上およびエッチャント濃度の高精度制御化が可能な事が解った。
- 1996-11-14