ArFリソグラフィー技術の現状と今後の展望

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概要

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ArFリソグラフィー技術は0.15μm以降のリソグラフィー技術として期待されている。ArFリソグラフィーの実用化にはArF露光用レジスト、ArF露光機、及びマスクなどの周辺技術の開発が重要である。ArFレジストに関しては最近脂環樹脂を用いた化学増幅レジストの開発が進み、実用的なレジストも出始めてきた。また、シリル化プロセスなどを用いた表層イメージングプロセスの改良も進んでいる。また、単層レジストを反射防止膜、ハーフトーンマスクと組み合わせて用いると0.12μmレベルのデバイスパターンの形成が可能であることも実証された。今後、ArF露光技術は着実にポストKrFリソグラフィー技術として実用化を迎えると考えられる。
社団法人電子情報通信学会の論文
1997-11-21

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