OME2000-47 金属上のNTCDA薄膜成長 : 薄膜形成過程と吸着状態

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概要

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• ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)薄膜をAu, Al, In各金属膜上に作製し、薄膜形成過程の違いについて、オージェ電子分光(AES)、原子間力顕微鏡(AFM)、光電子分光法(UPS, XPS)により調べた。Au上の場合は、NTCDAのgrainが、Au上に直接成長することにより薄膜が形成されていくのに対し、Al上では、いったんNTCDA分子がAlと反応して2次元膜が形成され、その上にNTCDAのgrainが形成されていく様子がみられた。また、In上に成長させた場合は、NTCDA膜中へのIn原子の拡散がみられた。これらの金属による成長様式の違いについて、金属-NTCDA間の結合様式の相違により議論した。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2000-07-21

著者

• 平沢 明

  筑波大物理工学系

• 丸山 隆浩

  立命館大理工

• 秋本 克洋

  筑波大物理工

• 菅原 規司

  筑波大物理工学系

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