ポリシラン位相差マスクの開発とその光相関システムへの応用
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概要
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ポリメチルフェニルシラン(PMPS)の紫外(UV)光分解に伴う屈折率変化を検討し、その位相差マスクへの応用を試みた。PMPS膜におけるUV光分解の波長依存性の検討から、側鎖フェニル基の脱離反応を引き起こすことで効果的に屈折率が低下することが明らとなった。この屈折率変化を利用することで照射UV光パターン通りに位相情報を記録できることが示された。フォトリフラクティブポリマーを利用した4光波混合法をベースとするマッチドフィルター型光相システムの入力情報に、このポリシラン位相差マスクを用いたところ、同一位相情報が入力した時に強い相関信号が発生し、光相関情報処理の位相差マスクとして利用可能であることが示された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-04-28
著者
-
横山 正明
大阪大学 先端科学イノベーションセンター
-
横山 正明
大阪大学大学院工学研究科
-
長山 智男
大阪大学大学院工学研究科
-
横山 正明
大阪大学大学院工学研究科生命先端工学専攻物質生命工学コース
-
横山 正明
大阪大 大学院
-
佐藤 哲夫
独立行政法人宇宙航空研究開発機構
-
佐藤 哲夫
大阪大学大学院工学研究科
-
長山 智男
大阪大学大学院工学研究科 生命先端工学専攻
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