マスクしたジシレンのアニオン重合によるポリシランの合成

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概要

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ポリシランは主鎖がケイ素のみで構成される高分子であり、新規機能性材料として注目されている。しかし従来知られている実用的なポリシランの合成法は、ナトリウムによるジクロロシラン類の還元的縮合法のみであり、分子構造や分子量の制御は全く出来ない。最近我々はマスクしたジシレン(ビフェニルとジシレンの付加化合物)のアニオン重合により、ポリシランが高収率で得られることを見出した。この方法により、以下のような新規なポリシランが高収率で合成できた。これらのポリシランについて述べる。(1)化学的およぴ構造的に純粋なポリシラン、(2)ポリシラン交互共重合体、(3)ポリシランブロック共重合体、(4)側鎖に官能基を持つポリシラン
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-05-07

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