Ni薄膜の電流通電時の熱ストレス測定評価へのホログラフィの応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
近年のマイクロエレクトロニクスの発展に伴って、薄膜の応用は不可欠となっている。これに伴って、薄膜の機械的特性、ならびに、熱ストレス解析は重要な課題となっている。本研究では、Niの薄膜に電流を通電し、その時発生したジュール熱の影響に伴う熱ストレス測定評価にホログラフィを応用し、薄膜のパターンとの相関について実験的に比較検討し、その特徴の一部を明らかにした。
- 1993-12-17
論文 | ランダム
- 半側空間無視 (Neglect) を有する脳卒中患者の生活障害評価尺度 : the Catherine Bergego Scale (CBS) 日本語版の作成とその検討
- オンオフ信号形式型M系列を用いる多値変調法の一検討(信号処理,スペクトル拡散,及び一般)
- オンオフ信号形式型M系列を用いる多値変調法の一検討(信号処理,スペクトル拡散,及び一般)
- 直交系列を用いたM-ary/SS方式の同期捕捉法の提案
- 発毛促進とサイトカイニン(健康と植物生理活性物質)