TFD-LCDにおける焼き付きとその改善方法について

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概要

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• I-V特性のシフトが焼き付きの1つの原因であることを確かめ、その関係を明らかにした。焼き付き時間はI-V特性のシフト量に比例し、素子I-V特性のシフト量が小さければ、焼き付き時間は短いことが確認できた。また、素子I-V特性のシフト量を小さくするには、熱処理温度を高くすればよいことがわかった。ただし、熱処理温度を高くすればコントラスト比が低下するため、熱処理温度と陽極酸化電圧の最適化が必要である。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1994-02-17

著者

• 中村 卓

  (株)東芝 液晶事業部 液晶開発センター

• 平井 考典

  東芝ディスプレイデバイス技術研究所

• 三宅 和志

  (株)東芝ディスプレイデバイス技術研究所

• 安倍 裕嗣

  東芝電子エンジニアリング

• 三宅 和志

  東芝ディスプレイデバイス技術研究所

• 中村 卓

  東芝ディスプレイデバイス技術研究所

• 渡辺 みゆき

  東芝ディスプレイデバイス技術研究所

• 鎌上 信一

  東芝ディスプレイデバイス技術研究所

• 森田 廣

  東芝ディスプレイデバイス技術研究所

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