透明導電膜(ITO)の新しい成膜装置
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概要
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高密度プラズマが生成可能な圧力勾配型プラズマガンにビーム修正装置を付加した新しいイオンプレーティング法(URT-IP法)は, 大面積基板に均一な成膜が可能である. URT-IP法は, 種々の薄膜の高速成膜法として, ポテンシャルの高い成膜法である. 本報では, URT-IP法によりフラットパネルディスプレイの透明導電膜(ITO)の成膜に注目した. プロトタイプマシンを用いた実験では, 低比抵抗ITO膜が, 低い基板温度で, かつ従来のスパッタリング法より高速で得られ, 従来プロセスに十分競合できることがわかった. 1997年には商用生産機を完成させ, 従来のスパッタリング装置への代替を計って行く.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-11-01
著者
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