高耐圧NchDMOS・PchMOS内蔵BiCMOS Process
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概要
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近年、高電圧回路を含む電気機器システムの低コスト化・高性能化・高信頼性化・小型化等を目的として、高耐圧モノリシックICの開発が盛んになってきている。今回、高耐圧プッシュプル回路及び低耐圧ロジック回路のモノリシック化を可能にするプロセスの試作を行なったので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
近年、高電圧回路を含む電気機器システムの低コスト化・高性能化・高信頼性化・小型化等を目的として、高耐圧モノリシックICの開発が盛んになってきている。今回、高耐圧プッシュプル回路及び低耐圧ロジック回路のモノリシック化を可能にするプロセスの試作を行なったので報告する。