UV誘起グレーティングとスポットサイズ変換LDを用いたハイブリッド4波長レーザ
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概要
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石英系PLCと光半導体素子をハイブリッド集積する技術にUV誘起グレーティング作製技術を適用することにより, 著者等は波長安定化光源として期待されるハイブリッド集積化外部共振器レーザの動作確認を行ってきた。今回, 本ハイブリッドレーザのWDM用多波長光源への適用性を検討するため, 4個のUV誘起グレーティングと4個のスポットサイズ変換(SS-)LDをSi基板上に集積した2 nm間隔4波長アレイレーザを作製したのでその結果を報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
高橋 浩
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
板屋 義夫
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
山田 泰文
NTT光エレクトロニクス研究所
-
岡本 勝就
NTT光エレクトロニクス研究所
-
岡本 勝就
Ntt Corporation
-
橋本 俊和
NTT光エレクトロニクス研究所
-
山田 泰文
Nttエレクトロニクス
-
姫野 明
NTT光エレクトロニクス研究所
-
高橋 浩
NTT光エレクトロニクス研究所
-
山田 泰久
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
田中 拓也
NTT光エレクトロニクス研究所
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