2-1 半導体技術 : 半導体技術の進展(<特集>システムLSI : マルチメディア社会を支えるIC技術)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• シリコン高集積回路製造のための半導体技術について述べる.超高集積回路の属性は, 高集積度, 高処理速度, 低消費電力である.これらの性質を向上させる最も重要な技術は、微細加工技術である.半導体技術の歴史は, 微細加工技術の歴史でもあった.微細加工技術は, 材料技術, 装置技術, プロセス技術から成る.本稿では, 微細加工技術の一つであるリソグラフィー技術の進展について述べ, 最先端のリソグラフィー技術を解説する.それらはArFエキシマレーザリソグラフィー, VUV・EUVリソグラフィー, 等倍X線リソグラフィー, 電子ビーム直接描画技術である.

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1998-11-25

著者

• 石谷 明彦

  技術研究組合超先端電子技術開発機構

関連論文

• 2-1 半導体技術 : 半導体技術の進展(システムLSI : マルチメディア社会を支えるIC技術)
• 今後のリソグラフィ技術に向けた日本の取り組み〔含 原文〕
• ASETにおける研究開発内容 1 (特集 21世紀を拓く超先端電子技術)

スポンサーリンク