100nm時代に向けたリソグラフィー : ギガビットメモリに向けて

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概要

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• リソグラフィーはメモリLSIやロジックLSIの高集積化, 高速動作化を支えてきた主要技術であるが, 解像すべきパターン寸法が露光波長と同等あるいはそれより小さい時代を迎え, 新技術の実用化が必須の状況になってきた. そこで, 現在の技術レベルを考慮しながら, 200nm以下100nm時代へのリソグラフィーへの展望を示す.

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1996-05-25

著者

• 龜山 雅臣

  台彎尼康精機股〓有限公司

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