全反射蛍光X線分析法による表面汚染元素の超高感度評価
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概要
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全反射蛍光X線分析(Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis)装置が半導体製造プロセスのメタル汚染管理に実用化されつつあるが、半導体デバイスの高密度化にともない今後一層の高感度分析技術が必要になる。また、現状装置では主に遷移金属の高感度分析を対象としているが、半導体製造プロセス汚染管理ではNa、Al等の軽元素分析も非常に重要視されている。そこで、本研究においてはカーボン蒸着Siウェーハを分析用試料板として用い、濃縮法を適用することによりNa、Al等の軽元素から遷移金属までの同時分析を高感度で行う方法の検討を行った。また、インライン分析への適用が可能な高感度前処理として開発したVPT(Vapor Phase Treatment)法の検討を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-05-19