LSI技術開発の現状と課題 : 共通的基盤技術開発の重要性
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概要
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次世代LSIのプロセス・デバイス技術開発や、新しいLSI品種の開発において、その開発期間を短縮し、同時に開発投資額を低減することは今後のLSI産業の成長を維持・発展させてゆくための焦眉の課題である。これを実現するためには、技術開発におけるインフラストラクチャとも云うべき共通的な基盤技術を高度化する必要がある。本稿では次世代のプロセス・デバイス技術開発に大きく影響する故障解析技術、T-CAD技術および製造ラインの管理・連用のCIM技術にしぼり、現状を例をあげて説明すると同時に今後の課題を述べる。
- 1996-05-24