単一電子素子の室温動作に向けて
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概要
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マイクロエレクトロニクス分野での単一電子素子の存在が実感を持って意識され、研究人口の増加と相まって、研究が加速されている。動作温度も室温が射程内に入り、室温動作の集積回路も試作実証される迄になった。しかし室温動作素子を実用化するためには、2-3nmのいわゆるナノ構造形成技術が不可欠で、現用リソグラフィ技術とは1桁以上のギャップがある。そのため、ランダム系の利用、各種選択性や異方性の利用等、一工夫のある形成法でこのギャップを埋める努力がなされている。素子化、集積化には、多くの課題があるが、本稿ではその内、室温動作に向けた研究の現状や試みについて述べ、実用化を睨んだ研究方向を考えたい。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-14