LP-CVD法による石英系ガラス導波路の開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
主原料にSiCl_4を使ったLP-CVD法により光導波路のコア用GeO_2-SiO_2膜の高速合成および、それを用いたガラス導波路の作製について検討した。ガラス膜の高速合成実験では、混入散乱体を考慮したガラス膜堆積速度の最適値は0.2μm, minとなった。膜の比屈折率差はGeCl_4ドープ量により制御でき、最大2.4%まで得られた。この製膜技術は導波路作製の高速化、低コスト化に有効である。ガラス導波路作製では、直線導波路損失で0.1dB, cm以下と良好であった。WINC付き2×16分岐器の挿入損失は約16dBで、分岐器の主な損失原因は、接続損とWINC部の放射損であり、挿入損失はそれらの最適化により大幅に改善できるものと考えている。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-11-18
著者
-
伊藤 秀明
三菱電線工業株式会社
-
生西 省吾
三菱電線工業通信技術部
-
木下 貴陽
三菱電線工業株式会社
-
伊藤 秀明
三菱電線工業
-
御前 俊和
三菱電線工業電子通信研究部
-
生西 省吾
三菱電線工業株式会社
-
木下 貴陽
三菱電線工業
-
安藤 正顕
三菱電線工業
-
御前 俊和
三菱電線工業株式会社電子通信研究所
関連論文
- 光ファイバ配線シートの開発 : 光ファイバシート/光ファイバ配線板
- LMAフォトニック結晶ファイバの諸特性(高機能光ファイバ及び一般)
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- ファイバーレーザー用ダブルクラッドファイバーの開発
- C-4-18 融着フリーエアホール型ダブルクラッドファイバレーザ(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス)
- 耐曲げ型GIファイバの開発(高機能光ファイバ及び一般)
- C-3-129 サイドトンネル型偏波保持分散フラット光ファイバ(光ファイバ)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-50 スーパーモード分散補償ファイバの構造トレランス向上に関する一検討
- フォトニック結晶ファイバの製作技術
- C-3-83 フォトニック結晶ファイバの機械強度特性
- 可視光伝送用シングルモード光ファイバケーブル
- 方形コアファイバの特性(光ファイバ,光ファイバケーブル,光ファイバ部品,光信号処理,光計測,光伝搬,光発生,一般)
- CS-2-3 フォトニック結晶ファイバの非線形特性(CS-2. ホーリーファイバの最新研究開発動向, エレクトロニクス1)
- C-3-66 2 モードファイバ
- C-3-65 ダブルクラッドファイバにおける第一クラッド形状による吸収損失の変化
- C-3-36 大口径マルチモードフォトニック結晶ファイバ
- B-13-42 細径GIファイバの開発(B-13.光ファイバ応用技術,一般セッション)
- Nd熱拡散MgO:LiNbO_3導波路レーザの基礎実験
- 光ファイバ-アンプ (ファイバ-光学)
- 1.3μm帯におけるBiドープシリカガラスの新しい発光特性
- ダブルクラッドファイバレーザーの開発
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- 被覆上照射によるSn, Ge共ドープファイバグレーティングの特性
- 被覆上照射によるSnドープファイバを用いた長周期グレーティングの作製
- CS-12-10 フォトニック結晶ファイバの非線形特性(CS-12. 次世代ナノ技術と情報通信, エレクトロニクス2)
- C-3-64 125μmφ 耐紫外線光ファイバの開発
- 高出力ファイバレーザー用希土類元素ドープファイバの開発
- 宅内用細径光ファイバコードの開発
- フォトニック結晶ファイバ(3)超広帯域光源への応用 (自動車関連製品特集)
- KLN結晶による青色光発生
- 光ファイバハーネスの開発
- 1.48μm双方向励起EDF増幅特性
- 純石英クラッド分散補償光ファイバ
- 1.47μm励起高性能Er^ドープ光ファイバ増幅器の開発
- 0.98μm励起Erドープファイバ増幅装置の効率に関する検討
- 導波路形光センサ-ヘッド
- エルビウムドープ偏波保持光ファイバの特性
- 1.48μm双方向励起におけるEDF高出力化検討
- LP-CVD法による石英系ガラス導波路の開発
- 光ファイバシート--明日の光へ向かって
- 光デバイス編 EDFA(Erド-プ光ファイバ増幅器)のねらい目--Gビット級直接増幅も,小形・安定・実用装置へ (光エレクトロニクスが21世紀を導く!!)
- 希土類元素ド-プファイバと光ファイバ増幅 (光ファイバ増幅器とLD増幅器--35th微小光学特別研究会Proc.から)
- ファイバ型LD結合光学系の検討
- マルチコア光ファイバの最適製法に関する検討 (光ファイバ応用技術)
- Nd熱拡散LiNbO_3導波路レーザーの機能化の検討
- LP-CVD法による石英系ガラス導波路の開発
- 光ファイバ増幅器
- B-10-28 マルチコアファイバのコア間クロストークの波長依存性(B-10. 光通信システムA(光ファイバ伝送路),一般セッション)
- 高出力レーザ用光ファイバ
- マルチコア光ファイバの最適製法に関する検討(光ファイバケーブル・コード,通信用光ファイバ,光ファイバ線路構成部品,光線路保守監視・試験技術,接続・配線技術,光ファイバ測定技術,光コネクタ,ホーリーファイバ,機能性光ファイバ,光信号処理,光ファイバ型デバイス,光測定器,レーザ加工,ハイパワーレーザ光輸送,光給電,一般)
- 高出力レーザ用光ファイバ
- B-10-19 障壁層付加マルチコアファイバの特性(B-10.光通信システムA(光ファイバ伝送路),一般セッション)
- マルチコアファイバのクロストーク低減に関する検討
- マルチコアファイバのクロストーク低減に関する検討
- B-10-14 六角形クラッドMCFの融着接続損失測定(B-10,光通信システムA(光ファイバ伝送路),一般セッション)
- B-10-13 MCFのクラッド形状を利用した融着接続の回転角度調整(B-10,光通信システムA(光ファイバ伝送路),一般セッション)