酸化物誘電体多層膜を内装した中空ファイバの製作
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概要
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超低損失中空ファイバの実現を目指し,誘電体多層膜を内装した中空ファイバの製作について検討した.Nd:YAGレーザ用として,ペルヒドロポリシラザンを前駆体とする方法によりSiO_2層を,ゾルゲル法を応用することによりTa_2O_5層を交互に成膜する手法により,SiO_2/Ta_2O_5/SiO_2/Agの構造をもつ3層誘電体内装中空ファイバを製作した結果,適切な膜厚の多層膜を構成し,目的としたNd:YAGレーザ波長における低損失化を確認した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-03-09
著者
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