電子ビーム直接描画技術の現状と課題(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文<小特集>)
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概要
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電子ビーム直接描画技術の現状を最近の技術であるセルプロジェクション方式と, 光リソグラフィーとのミックスアンドマッチを中心に紹介する.各種調整機能の開発によりセルプロジェクション方式では5μm角21図形転写を可能とし, ミックスアンドマッチにおいては高精度合せ描画に必要なレンズびずみ補正技術を開発した.また電子ビーム直接描画のデバイス製造への適用例として, 先端デバイスの開発への適用例及び, ASIC生産への適用例について紹介する.優れた解像性とマスクレスという, 電子ビーム直接描画のもつ特徴を生かした適用が行われている.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-12-01