光マスク製造・検査計測・修正技術の現状(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文<小特集>)
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概要
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微細化が加速する半導体デバイス技術の中で, ホトマスクはリソグラフィー技術を支える重要なキーパーツとなっている.現在130nm世代の半導体デバイスの量産化が進められているが, 次世代の100nm世代以降では, ホトマスクに対してリソグラフィー光源の短波長化と, 波長の半分以下のサイズのパターン加工に対応した機能が求められている.ここでは, ホトマスクに求められている高精度化, 品質保証, 無欠陥対応について現状技術と今後の展望を述べる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-12-01