F_2リソグラフィー装置の開発現状(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文<小特集>)
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概要
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半導体は, 高度情報化社会を支える基盤技術である電子通信情報技術のコアテクノロジーである.低消費電力技術と高速化技術を両立させたシステム化技術を実現するために更なる微細加工技術が求められている.Post ArF露光技術として注目されているF_2(157nm)露光技術は, 真空紫外領域の波長を利用するため光学材料や露光環境に多くの制限が発生する.本論文では, F_2露光技術に関する材料, レーザ, 投影光学系等の課題を明らかにし, その解決方法を紹介する.
- 2001-12-01