31Mbits/mm^2(20Gbits/in^2)以上の面記録密度を仮定したライトヘッドのマクロ磁界解析

概要

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渦電流を考慮した有限要素法による3次元非線形過渡解析計算により, 面記録密度が31〜155Mbits/mm^2(20〜100Gbits/in^2)の記録素子の検討を行っている.まず, ヨーク長が20μm程度であれば, 記録磁界は1GHzまでの記録電流に追従することから, 周波数軸上では31Mbits/mm^2(20Gbits/in^2)を超える面密度に対しても対応可能であることを述べている.次に, 155Mbits/mm^2(100Gb/in^2)で予測されているトラック幅0.1〜0.15μmと400kA/mを超える高保磁力媒体の組合せを仮定した検討を行った.まず, stitchedヘッドはトラック幅0.1〜0.15μmでは記録磁界強度が不足することに加え, その構造に起因する2次書込み磁界が発生することを述べている.また, ウエーハ面からFocused Ion Beamでトラックをトリム加工した記録素子は2次書込み磁界を避け得ること, stitchedヘッドに比べ強い記録磁界を発生し得るが, 高保磁力媒体に記録するには不十分である.今後, 記録素子の開発では材料の検討とともに, 構造の検討が重要であるため, 磁界解析計算の果たす役割が大きいことを述べている.
一般社団法人電子情報通信学会の論文
2000-08-25