反射箱内電界分布の統計的特性
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概要
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反射箱は、撹拌機の機械的な移動により境界条件を変化させて統計的に均一な電磁界を発生させる。理想的な反射箱を仮定すれば、電界の平均値、中央値、及び最大値分布の空間的な均一性は、確率密度関数から理論的に求めることが出来る。しかしながら、反射箱内の電界均一性は、反射箱の大きさ及び撹拌機の構造等により影響を受ける。撹拌機による均一性への影響について実測により評価を行ない、その結果を理論値と比較した。反射箱内に効果的な撹拌機を設置し、反射箱の大きさが波長に対して十分大きければ、すなわち共振モード数が10^5程度存在するような周波数帯では、実測値は理論値と良く一致した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-10-13
著者
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