位相シフトマスクにおける位相割り当て手法

スポンサーリンク

概要

論文の詳細を見る
微細加工を必要とするゲート層のパターン形成のため、位相シフトマスクが用いられている。位相シフトマスクは、ゲートを形成するため、ゲートの両側に通常の光透過部と位相を180°反転させた光透過部を置き、光の干渉を用いて精度を向上させる超解像技術である。通常、ソフトウェアによる位相の自動割り当てにおいて、規則的に並んだゲートに対しては、すべての光透過部の位相を反転可能であるが、ゲート配置が不規則な場合は、ゲートを挟まず隣接する光透過部が同位相となる場合があり、ゲートの寸法精度に影響する。既存のソフトウェアでは、この問題を考慮しているものはほとんど無い。本稿では不規則なゲート配置でも、隣接するすべての光透過部に異なる位相を割り当てられる手法について述べる。
2002-06-22

著者

関連論文

スポンサーリンク