斜め入射による高周波超音波洗浄槽の特性改善

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概要

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1MHz前後の高周波超音波を用いた洗浄は、キャビテーションによる被洗浄物の損傷を避けられるため、半導体製造工程に不可欠の基礎技術になっている。本報では、液体中の平面板に斜めに入射する超音波の透過特性を利用することによって、内外二重槽構造の高周波超音波洗浄槽の特性を大幅に改善しうることを示した。反射波の影響を受ける超音波洗浄槽においても、平面板を音源に対して一定の角度だけ傾けると、進行波音場と同じように、音圧の透過率が増大することを確認した。パイレックス・ガラス製の、底面が水平な在来の内槽と、特性改善の一つの手段として底面を傾斜させた内槽の音圧分布を比較し、その効果を明らかにした。
1994-10-01

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