X線二結晶ダブルビーム法を用いた精密格子定数測定装置の開発
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概要
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X線二結晶ダブルビーム法を応用した精密格子定数測定装置を開発した.本装置の測定精度は転位の少ないSi結晶ではΔd/d=1×10^<-7>,転位密度が比較的高い(3〜4×10^4cm^<-2>)GaAs結晶では1×10^<-6>であった.本報告では,X線二結晶ダブルビーム法による格子定数測定法の原理,開発した装置の構成,性能並びにGaAs結晶評価の応用例について述べる.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1988-06-05