F-0536 単結晶微小シリコン球の磁性流体研磨(J17-5 マイクロトライボロジー&プロセッシング(5))(J17 マイクロトライボロジー&プロセッシング)
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概要
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Single crystal silicon balls with about 1mm of diameter are required for advanced semiconductor process. They were polished by magnetic fluid grinding. After 120 min of polishing time, sphericity and surface roughness of the ball decreased with polishing time and reached to 0.14 μm and 10 nmRa, respectively. Damaged layer by polishing was evaluated with Raman spectroscopy. The thickness of damaged layer by magnetic fluid grinding was less than 1 μm.
- 2001-08-22
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