ゾル・ゲル法を利用した被覆による多孔質シリカの細孔径の制御
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概要
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Porous silica having mesopores of about 3 nm width and narrow pore diameter distribution(PDD)was prepared by the sol-gel method. Oxide films of nominal composition of 80SiO_2・20TiO_2 were coated on the porous silica by using partially hydrolyzed complex alkoxide solutions. N_2 adsorption was measured on the uncoated and coated porous silicas and the PDDs were calculated. After coating, larger pores in width decreased and the PDD became narrower. From t-plots, the porous silica after coating contained only mesopores and no micropores were observed. Repetition of the coating procedure had no apparent effect on PDD.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1995-11-01
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