イソシアナートを用いた疎水性シリカの製造
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概要
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Hydrophobic silicas were prepared as follows: 0.5 g of silica powder was dried at 200℃in an electric furnace and then the powder was treated ill n hexane solution containing 1.0 g of 2,4 tolylenediisocyanate (2,4 TDI) at room temperature for 4h. The other isocyanates, hex amethylene diisocyanate (HMDI) , isophorone diisoc yanate (IPDI), methylene diphenylisocyanate (MDI) and phenyl isocyanate (PI) were used. Surface modification by IPDI and MDI gave hydrophobic silica. The conditions for preparing hydrophobic silica, such as drying temperature and reaction time were investi gated. Also the dispersibility of the products to sorne organic solvents was discussed.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1994-06-01
著者
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谷田部 純
帝京科学大学理工学部物質工学科
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影山 俊文
関東学院大学工学部工業化学科
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谷田部 純
関東学院大学工学部工業化学科
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影山 俊文
関東学院大学大学院工学研究科 工業化学専攻
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影山 俊文
関東学院大 工
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