RF-マグネトロンスパッタ法によるBaTiO_3薄膜の結晶構造の変化
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概要
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The crystal structure of BaTiO_3 thin films fabricated by RF-magnetron sputtering has been investigated. As-sputtered films exhibited a cubic structure with a small grain size of about 6-8nm. After annealing at a temperature above 1100℃, the crystal structure changed from cubic to tetragonal, because the annealing process caused grain growth. The critical grain size of the thin films which provided the cubic structure existed in the range of 0.1-0.2 μm. This value agreed well with the critical grain size of BaTiO_3 fine particles, 0.12 μm.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1992-09-01
著者
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内野 研二
上智大学理工学部物理学科
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内野 研二
上智大 理工
-
鳥羽 環
上智大学理工学部物理学科
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李 南良
上智大学理工学部物理学科
-
臼木 成和
上智大学理工学部物理学科
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油谷 英明
上智大学理工学部物理学科
-
伊藤 由喜男
上智大学理工学部物理学科
-
内野 研二
上智大学理工学部
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