28a-F-3 H_2O/Si(100)表面のオージェ過程とイオン脱離
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1997-03-17
著者
-
鎌田 雅夫
分子研
-
田中 慎一郎
阪大産研
-
鎌田 雅夫
佐賀大slセンター
-
永園 充
SPring-8
-
永園 充
分子科学研究所
-
永園 充
(分子研)
-
間瀬 一彦
(分子研)
-
田中 慎一郎
(分子研)
-
鎌田 雅夫
(分子研)
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