Si Epitoxial GrowthにおけるSiO_2被膜のMask効果(1) : 半導体(エピタキシー)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1964-04-06

著者

• 高林 眞

  東芝中研

• 勝村 紘

  東芝中研

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