3a-BJ-9 偏極中性子ブラッグ散乱によるNi-SiO多重薄膜の表面磁化の測定

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1978-09-11

著者

• 西 正和

  東大物性研

• 遠藤 康夫

  東北大理

• 伊藤 雄而

  東大物性研

• 佐藤 正俊

  東大物性研

• 阿部 克彦

  東大物性研

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