二重拡散型トランジスタの応力効果 : pn接合の応力効果シンポジウム

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人日本物理学会の論文
• 1965-04-06

著者

• 大和田 敦之

  東芝半導体技

• 大和田 敦之

  東芝半導体技術部

関連論文

• ショットキーダイオードの点応力効果 : 半導体 (圧力効果, 電子顕微鏡による観察)
• 化学蒸着SiO_2-Si界面の研究 : 半導体 (表面)
• MOS FETの特性 : 面指数依存性 : 半導体 (表面)
• 二重拡散型トランジスタの応力効果 : pn接合の応力効果シンポジウム

スポンサーリンク