溶液中での光照射によりニトロフェニルエーテルから生ずるフリーラジカルの同定

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概要

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• Nitrofen, chlornitrofen, およびchlormethoxynilの水-メタノール溶液中での光照射中にESR測定を行なうことにより, 不安定なニトロアニオンラジカルやスーパーオキシドの存在を確認した.ニトロアニオンラジカルの存在は嫌気条件下で見られること, またアルカリ性条件下のほうが濃度が高いこと, さらにまた好気条件下ではこのラジカルのスペクトルは見られなくなり, 代わりにスーパーオキシドアニオンラジカルのそれが観察されることを見いだした.これらの事実に基づいて, ラジカルの生成過程, 反応, さらに除草活性との関連について論じた.

• 日本農薬学会の論文
• 1987-11-20

著者

• 高橋 尚裕

  Laboratory of Biochemistry and Toxicology, Takarazuka Research Center, Sumitomo Chemical Co., Ltd.

• Mason Ronald

  Laboratory Of Molecular Biophysics National Institute Of Environmental Health Sciences

• 高橋 尚裕

  Laboratory Of Biochemistry And Toxicology Takarazuka Research Center Sumitomo Chemical Co. Ltd.

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