高精度パターンドメディア用EB描画技術(<特集>EB描画技術)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 2004-03-05
著者
-
伊藤 高臣
(株)エリオニクス開発技術部開発室
-
小野 進
(株)エリオニクス
-
小島 靖彦
(株)エリオニクス開発技術部技術課
-
大橋 澄人
(株)エリオニクス開発技術部開発室
-
横田 克己
(株)エリオニクス開発技術部機械技術課
-
布川 博
(株)エリオニクス開発技術部技術課
-
竹内 雅一
(株)エリオニクス開発技術部電気技術課
-
堀田 昌直
(株)エリオニクス開発技術担当
-
小野 進
(株)エリオニクス開発技術部
関連論文
- 走査型電子顕微鏡像カラー化のための二次電子の簡易分光
- 高精度パターンドメディア用EB描画技術(EB描画技術)
- 電子線を用いた3次元計測
- 走査電子顕微鏡による二次電子放出特性を用いた立体像の構築とその応用
- 112 二次電子放出強度特性を用いた破面の3次元解析法の開発とその応用
- イオン加工機の開発動向(エネルギービーム加工)
- 最新開発事例 HDDの「パターンドメディア」技術に不可欠な微細加工装置 (特集 ナノエレクトロデバイスの課題と可能性)