シリコン・エピタキシャル・ウェーハを用いたショットキー・ダイオード

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 有明工業高等専門学校の論文

著者

• 篠崎 文重

  九州大学教養部物理学教室

• 中村 俊三郎

  有明工業高等専門学校

関連論文

• シリコン・エピタキシャル・ウェーハを用いたショットキー・ダイオード
• 酸化物高温超伝導体の磁束グラス-液体転移温度付近における交流履歴損失-交流履歴損失に対する簡便な理論式-
• 熱拡散法によるCMOSデバイスの試作(1) : 試作プロセスの検討
• 酸化物高温超伝導体における低周波交流損失(2) : 等価臨界電流密度を規定するパラメータの影響
• 酸化物高温超伝導体における低周波交流損失(1) : ピンニング・パラメータ依存性について
• (16)基本論理ゲートICを用いた自由課題による回路製作(セッション5 教育システムB(実技)I)
• 卒業研究における集積回路分野への導入教育
• (41)高専の卒業研究における半導体集積回路分野への導入教育 : pn接合の形成からnMOSリングオシレータの試作まで(第11セッション 教育研究指導(I))
• スピンオン法によるpn接合の作製
• MOS集積回路の試作:九州工業大学情報技術セミナーに参加して

スポンサーリンク